行業主要上市公司：清溢光電 ( 688138 ) ; 路維光電 ( 688401 ) ;中芯國際 ( 688981 ) ; 華宏半導體 ( 01347 ) 等
本文核心數據：中國掩膜版行業生産工藝流程圖 ; 中國掩膜版行業關鍵技術分析 ; 中國掩膜版行業上市企業科研投入力度
掩膜版生産工藝流程圖
掩膜版的生産有 14 道工藝，有圖形設計、圖形轉換、圖形光刻、顯影、蝕刻、脫膜等環節。具體生産工藝流程圖如下：
掩膜版關鍵技術分析
從掩膜版關鍵技術布局來看，主要包括光刻技術、顯影蝕刻技術、防微震技術以及光阻塗布。其中光刻是掩膜版制造的重要環節，主要的技術分爲激光直寫法和電子束直寫法。
國内掩膜版技術投入有所加強
從我國掩膜版相關上市企業的科研投入情況來看，在研發投入力度上，華潤微的研發投入金額數量較大，2020 年來保持在 5 億元以上，主要系企業産品布局較多，除掩膜版外，在傳感器、集成電路等産品布局廣泛，研發投入項目較多，金額較大。整體來看，我國掩膜版行業上市企業的研發投入力度保持增長态勢。從研發投入強度來看，掩膜版行業上市企業的研發投入強度保持在 4% 以上，除路維光電逐年下降外，行業整體研發投入強度呈上升趨勢，一定程度反映行業内企業對科研投入的重視程度有所提高。
注：路維光電未披露 2018 年數據，下同。
掩膜版新興技術布局
從我國掩膜版技術發展趨勢來看，無掩膜版光刻技術是降低光掩模不斷飛升的一個潛在解決方案，是一種有前途的候選光刻技術。但其還處于一個發展早期的階段，有待解決的技術問題還很多。近期内可能隻是一個細分的光刻技術，不能替代主流的 DUV 和 EUV 光刻技術，但其較低的成本将使其在未來繼續受到關注。
更多本行業研究分析詳見前瞻産業研究院《中國掩膜版（光刻掩膜版）行業發展前景預測與投資戰略規劃分析報告》。
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