非光刻方案，佳能開始銷售 5nm 芯片生産設備

IT 之家 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日發布新聞稿，開始銷售芯片生産設備 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于複雜光刻技術的方案，可以制造 5 nm 芯片。

佳能表示這套生産設備的工作原理和行業領導者 ASML 不同，并非光刻，而更類似于印刷，沒有利用圖像投影的原理将集成電路的微觀結構轉移到矽晶圓上。

這套設備可以應用于最小 14 平方毫米的矽晶圓，從而可以生産相當于 5nm 工藝的芯片。

佳能表示會繼續改進和發展這套系統，未來有望用于生産 2nm 芯片。

IT 之家注：納米印刷（Nanoprinted lithography）通常被認爲是光學光刻的低成本替代品，SK 海力士和铠俠等存儲芯片制造商過去曾嘗試過使用。铠俠此前進行過測試，不過潛在客戶提出投訴，認爲産品缺陷率較高，最後選擇放棄。