ASML将于年底出貨新一代EUV光刻機：爲2nm工藝打造，售價将超10億元

晶圓代工廠商如果想要研發全新的制程工藝，那麽就需要更加先進的光刻機，而現在最爲先進的 EUV 光刻機幾乎都被 ASML 所壟斷，而現在有消息稱 ASML 計劃在年底出貨最新一代的光刻機，産能大幅提升，可以爲今後的 2nm 工藝制程做準備。

作爲目前 EUV 光刻機領域的絕對領導者，ASML 的 EUV 光刻機也經過了多次叠代，讓能效以及産能大幅提升，目前 ASML 出貨的最新光刻機爲 NXE：3600D，而下半年将要出貨的是 NXE：3800E 光刻機，與目前的光刻機相比，NXE：3800E 光刻機的曝光能力達到了 30mJ/cm2，這個性能水平相當于每小時能夠制造 195 片晶圓，經過優化後産能可以達到 220 片晶圓，與目前的光刻機相比提升了 30%，很顯然産能的提升也将減緩現在高端芯片産能供應不足的局面。

至于價格的話，屬于行業機密了，不過有報道稱 NXE：3600D 光刻機的售價超過了 1.5 億美元，也就是 10 億元人民币，那麽更加先進的 NXE：3800E 光刻機應該來說隻會更加昂貴，畢竟現在整個市場就是 ASML 說了算，而且光刻機也是供不應求，包括三星、英特爾以及台積電都将選用 ASML 的最新一代的光刻機，如果下半年順利交付的話，加上調試、安裝等時間，預計三星可以在明年将這款光刻機用于 2nm 制程晶圓的生産之中。