财聯社 6 月 30 日訊（編輯 夏軍雄）當地時間周五（6 月 30 日），荷蘭政府宣布了限制某些先進半導體設備出口的新規定，這些規定将于 9 月 1 日生效。
具體而言，荷蘭政府将要求先進芯片制造設備的公司在出口之前須獲得許可證。
荷蘭外貿與發展合作大臣莉謝 · 施賴納馬赫爾表示，隻有非常有限的公司和産品型号會受到影響。
盡管荷蘭政府并未直接點出會受到限制的公司，但外界都明白這是在限制光刻機巨頭阿斯麥（ASML）。
荷蘭政府的消息傳出之後，阿斯麥在其官網發表聲明稱，該公司未來出口其先進的浸潤式 DUV 光刻系統（即 TWINSCAN NXT:2000i 及後續浸潤式系統）時，将需要向荷蘭政府申請出口許可證。而荷蘭政府将決定是否批準或拒絕所需的出口許可證，并就任何适用的條件向阿斯麥提供進一步的細節。
阿斯麥強調，該公司的 EUV 系統的銷售此前已經受到限制。
阿斯麥同時表示，預計上述措施不會對其 2023 年财務前景或 2022 年 11 月投資者日期間傳達的長期情景産生重大影響。
有一款 DUV 光刻機并不受限
近年來，美國在對華政策上實行脅迫外交，多次施壓其盟國限制如光刻機等高科技産品等出口。
自 2018 年以來，在美國的壓力之下，荷蘭政府一直禁止阿斯麥向中國出口其最先進的極紫外線光刻機（EUV），但仍可以銷售上一代的深紫外線光刻機（DUV）。然而，美國近階段又希望進一步打壓中國芯片行業，将 DUV 也納入禁售範圍。
荷蘭政府早在 3 月就表示，考慮把光刻機的出口管制範圍擴大到 DUV。
根據阿斯麥官網提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式 DUV 光刻機産品共有三款，分别是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。
（來源：官網）
阿斯麥 3 月曾表示，預計 2000i 和 2050i 這兩款産品會受到荷蘭政府的出口限制。再對比阿斯麥今天的回應來看，TWINSCAN NXT:1980Di 這款 DUV 光刻機并不在限制範圍内。
根據官網介紹，TWINSCAN NXT:1980Di 的分辨率可以達到≤ 38nm，每小時可以至少生産 275 片晶圓。
在實際生産和使用中，通過多重曝光，TWINSCAN NXT:1980Di 依然可以支持到 7nm 左右的工藝生産，當然相比于更先進的光刻機型号，其在生産先進工藝時的步驟将更爲複雜，成本将更高，良率可能也會有損失。
全球晶圓廠在使用 1980Di 光刻機型号時，大多是生産 14nm 及以上工藝的芯片，很少去生産 14nm 以下的工藝。但可以肯定的是，用這一台 TWINSCAN NXT：1980Di 光刻機，生産 28nm、14nm 仍能完全滿足需要。這預示着目前就已大量采用 NXT:1980Di 進行成熟制程制造的晶圓廠将不會受到明顯影響，但在先進工藝方面，可能難以完全滿足需求。
中國外交部回應
在 6 月 30 日舉行的中國外交部例行記者會上，外交部發言人毛甯在回應記者相關提問時表示，中方堅決反對美方泛化國家安全概念，濫用出口管制，以各種借口拉攏脅迫其他國家對華搞科技封鎖，以行政手段幹預企業之間的正常經貿往來，嚴重破壞市場規則和國際經貿秩序，沖擊全球産供鏈的穩定，不符合任何一方的利益。
她指出，中方将密切關注有關動向，堅決維護自身的合法權益。
