日本與荷蘭簽半導體合作備忘錄：采購 ASML 光刻機，聯手技術研

IT 之家 6 月 26 日消息，據日本媒體報道，日本經産省與荷蘭經濟事務和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者将共同推進欲量産 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的合作，并聯手進行技術開發。

▲ 圖源：ASML

報道稱，ASML 量産尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機領域的翹楚。Rapidus 計劃利用經産省提供的補貼，采購 EUV 光刻設備。IT 之家注意到，EUV 光刻機在全球範圍内較爲短缺，面臨着台積電、英特爾、三星等巨頭的争搶。報道指出，如果 Rapidus 和 ASML 展開合作，有望強化供應鏈。

出席簽約儀式的日本經産相西村康稔以 Rapidus 爲先例，表示 " 希望加強半導體領域的政府間合作 "。此前，荷蘭與日本先後追随美國的腳步，加強半導體出口管制。日本 7 月起将半導體制造設備等 23 項産品加入出口管制名單，荷蘭也将于本周對 ASML 的 5 nm 級 DUV 光刻機 NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 加強出口管制。