IT 之家 3 月 13 日消息，光刻機制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝，新機型将帶來更高的生産效率。
▲ ASML 在 X 平台上的相關動态
IT 之家查詢發現，ASML 官網尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。
除了正在研發的 High-NA EUV 光刻機 Twinscan EXE 系列，ASML 也爲其 NXE 系列傳統數值孔徑 EUV 光刻機持續更新升級，未來目标在 2025 年推出 NXE:4000F 機型。
上兩代 NXE 系列機型 3400C 和 3600D 分别适合 7~5、5~3 納米節點生産，德媒 ComputerBase 因此預測 3800E 有望支持 3~2 納米的尖端制程。
根據 ASML 此前分享的 2021 版路線圖，Twinscan NXE:3800E 系統将相較上代 3600D 在對準精度（Overlay）和産能上進一步提升，可實現 195 片晶圓的每小時吞吐量，相較 3600D 的 160 片大幅提升近 22%，并有望達到 220 片的目标（對應提升 37.5%）。
▲ 2021 年版 ASML 光刻機路線圖。圖源 ASML，下同
