36 氪獲悉,中信證券研報指出,光刻機是半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一。全球光刻機市場規模超 230 億美元,ASML 處于絕對領先,國内市場規模超 200 億元,但是國産化率僅 2.5%。目前半導體制造工藝節點縮小至 5nm 及以下,曝光波長逐漸縮短至 13.5nm,光刻技術逐步完善成熟,但是國内光刻機仍明顯落後 ASML。同時,美國對中國先進制程設備和技術圍追堵截,光刻機處于核心 " 卡脖子 " 狀态。産業本土化趨勢下,制造環節先行,我們認爲國産高端光刻機的發展有望獲得推動,光刻機及半導體設備産業鏈将有望同步受益。